分類: 活動公告 來源: 理工學院 電機工程學系 - 邱昭儒 - senorita@gms.ndhu.edu.tw - 電話5063 對象: 僅限本系學生 標題: 【專題演講】5/8(五)_ALD Gate Dielectric for Future CMOS Scaling 日期: 2026-05-06  ( 星期三 )  07:55
活動訊息通知
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| 活動詳細內容 | |
| 參加對象 | ■僅限本系學生 |
| 活動名稱 | 【專題演講】5/8(五)_ALD Gate Dielectric for Future CMOS Scaling |
| 活動地點 | https://meet.google.com/iwi-gsto-ezr |
| 報名日期時間 | 2026/05/05(二) 00:00 ~ 2026/05/08(五) 08:00 |
| 活動日期時間 | 2026/05/08(五) 14:00~16:00 |
| 活動說明 | 研究所【專題討論】課程,電機/資工系專題演講,演講資訊如下: 講題: ALD Gate Dielectric for Future CMOS Scaling 演講者: 李宗恩助理教授/國立陽明交大半導體工程學系 (台積電青年學者/玉山青年學者) 時間:115年5月8日(五)14:00~16:00 線上會議: https://meet.google.com/iwi-gsto-ezr 跨域活動專業2小時,歡迎同學上網報名參加。 p.s. 線上活動有報名且有確實全程出席,才能獲得專業時數2小時喔。 |
| 報名人數 | 正取:60人 |
| 候補人數 | 候補:0人 |
| 主辦單位 | 理工學院 電機工程學系/資訊工程學系 |
| 活動聯絡人 | 邱昭儒 |
| 聯絡人電話 | 5063 |
| 聯絡人Email | senorita@gms.ndhu.edu.tw |
| 活動相關網址 | |
| 備註 | |
| 活動認證項目 | 專業成長 |
| 活動認證時數 | 2.0小時 |
| 公務人員終身學習時數 | 不提供 |