分類: 活動公告
來源: 理工學院 電機工程學系 - 邱昭儒 - senorita@gms.ndhu.edu.tw - 電話5063
對象: 僅限本系學生
標題: 【專題演講】5/8(五)_ALD Gate Dielectric for Future CMOS Scaling 
日期: 2026-05-06  ( 星期三 )  07:55

活動訊息通知

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活動詳細內容
參加對象■僅限本系學生
活動名稱【專題演講】5/8(五)_ALD Gate Dielectric for Future CMOS Scaling
活動地點https://meet.google.com/iwi-gsto-ezr
報名日期時間2026/05/05(二) 00:00 ~ 2026/05/08(五) 08:00
活動日期時間2026/05/08(五) 14:00~16:00
活動說明
研究所【專題討論】課程,電機/資工系專題演講,演講資訊如下: 

講題: ALD Gate Dielectric for Future CMOS Scaling 
演講者: 李宗恩助理教授/國立陽明交大半導體工程學系 (台積電青年學者/玉山青年學者)
時間:115年5月8日(五)14:00~16:00 
線上會議: https://meet.google.com/iwi-gsto-ezr 

跨域活動專業2小時,歡迎同學上網報名參加。
p.s. 線上活動有報名且有確實全程出席,才能獲得專業時數2小時喔。


報名人數正取:60人
候補人數候補:0人
主辦單位理工學院 電機工程學系/資訊工程學系
活動聯絡人邱昭儒
聯絡人電話5063
聯絡人Emailsenorita@gms.ndhu.edu.tw
活動相關網址
備註
活動認證項目專業成長
活動認證時數2.0小時
公務人員終身學習時數不提供

 


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